当前,EUV光刻胶的关注受到越来越多,能否制造出高端的EUV光刻胶,也将成为一个国家、一个企业能否在未来光刻技术领域获得一席之地的关键判断条件。
日本企业在发展EUV光刻胶上一直是不遗余力,日刊工业新闻近日有报道称,日本富士胶片已正式启动EUV光刻胶业务,目标在2024年之前获得全球的10%市场占有率。
富士胶片在生产据点导入高准确度的质量检查设备等,目前已经展开样品出货,计划最快在2021年的前半开始量产。由于AI人工智能、IoT物联网以及5G通讯的普及,半导体制程也朝着细微化进展。此外,应用EUV的光刻技术,也预估需求量将有所增长。
富士胶片子公司、从事半导体材料业务的富士电子材料公司 (FFEM),在日本静冈工厂全新投资约15亿日元(约人民币9424万元),安装了最先进EUV制程用途的半导体材料质量评估设备。公司将通过此次导入最先进检查设备,来提升质量并确保供货稳定。
富士电子材料公司为了研发生产EUV光刻胶,包含这回导入的检查设备在内,一共投资了45亿日元(约人民币2.8亿)。该公司生产ArF光刻胶的经验,也有助于新产品的研发生产。
富士胶片位在美国的据点,进行化学机械研磨液 (CMP Slurry) 的研发生产,为了提升显影液纯度,该公司也从2018年12月起进行100亿日元(约人民币6.2亿元)的投资,强化半导体材料的竞争力,而在疫情影响下,远距工作的普及等,都使得半导体材料需求上升。
来源:钜亨网
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