光刻胶研制专利在一定程度上反映了企业甚至国家在该产业领域的核心技术实力,同时也折射出光刻胶产业技术发展的未来方向。
我国光刻胶技术近些年才开始进行产业布局,但已有一定的突破,当前,国内大型公司纷纷进入光刻胶领域,其中上市公司就有南大光电、晶瑞股份、上海新阳、彤程新材、广信材料、普利特、恒坤股份等。
此前还有官方消息,华为在《光敏性聚酰亚胺光敏剂及相关小分子助剂的合成及应用研究》科研课题招聘博士后。
* 光敏剂是光刻胶生产的主要原材料之一,在光刻胶生产总成本中占比达到60%。
今年以来,更是有企业不断布局,切入光刻胶领域,如华懋科技、圣泉集团、世名科技、彤程新材和晶瑞股份等。
1月3日,华懋科技旗下产业基金——东阳凯阳科技创新发展合伙企业对外投资公告称,东阳凯阳于2020年12月30日,与傅志伟、上海博康、徐州博康签署了《投资协议》及其附属文件。
华懋科技通过东阳凯阳对徐州博康进行投资,将切入半导体关键材料光刻胶领域。
圣泉集团IPO过会,拟募资12亿布局光刻胶上游材料等
1月7日,中国证券监督管理委员会召开第十八届发行审核委员会2021年第4次发审委会议,济南圣泉集团股份有限公司(首发)获通过。
根据招股说明书显示,公司本次拟公开发行不超过1亿股人民币普通股,不低于本次发行后股本的10%,募集资金扣除发行费用后,将根据轻重缓急投资以下项目:
1月18日,世名科技发布公告称,公司审议通过了《关于对外投资暨签订入区协议的议案》,同意公司与马鞍山慈湖高新技术产业开发区管理委员会签订《入区协议》,并使用自有或自筹资金2.2亿元,在马鞍山慈湖高新技术产业开发区投资建设“年产56000 吨先进光敏材料及1000吨光刻胶纳米颜料分散液项目”。
项目产品主要包括30000吨光聚合单体、20000吨高性能树脂、1000吨光刻胶纳米颜料分散液、6000吨 UV 纳米颜料色浆。
本项目由苏州世名科技股份有限公司在马鞍山慈湖高新技术产业开发区新设立的全资子公司负责实施。项目公司注册资本10,000万元。
项目计划总投资22,000万元,其中固定资产投资18,000万元,流动资金4,000万元。预计2022年9月30日前建设完成,全部达产后,预计可实现年收入75,000万元人民币。
晶瑞股份7000万引入ArF光刻机,研发28nm高端光刻胶
1月19日,晶瑞股份发布了“关于购买光刻机设备进展情况的公告”。公告表示,为开展集成电路制造用高端光刻胶研发项目,经公司多方协商、积极运作,顺利购得ASML XT 1900 Gi型光刻机一台。
采购的光刻机设备为 ASML XT 1900 Gi 型 ArF 浸入式光刻机,可用于研发最高分辨率达 28nm 的高端光刻胶。该设备于2021年1月19日运抵苏州并成功搬入公司高端光刻胶研发实验室。
1月23日投资1.5亿,山东科莱福光电科技有限公司年产1600t光刻胶核心材料项目签约落户山东。
该项目总投资1.5亿元,建筑面积3万平方米,计划打造国内唯一、世界第二的包含颜料绿G58生产的新材料生产基地。
2月24日,彤程新材全资子公司彤程电子与舟山宁雨签订了《股权转让协议》,根据科华微电子的资产评估结果,北京科华微电子材料有限公司股东全部权益价值评估值为 65,000 万元,以该评估结果为基础,最终彤程电子以4,365万元的价格受让舟山宁雨持有的科华微电子6.72%股权。
产业研究与顾问公司势银(TrendBank)表示,当前光刻胶产业国产化趋势愈发明朗,上游光刻胶专用化学品需同步跟进国产化布局,以满足下游光刻胶生产需求。
随着面板产业向国内的转移,在面板显示领域重点推动彩色及黑色光刻胶的国产化,同时国内对TFT正性光刻胶的需求将加大。另外,顺应半导体纳米级工艺技术的进程,可以重点关注国内ArF光刻胶以及 EVU胶的开发进度。
来源:势银膜链
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