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三井化学将为光刻机大厂ASML生产防护膜

来源：互联网2021年05月24日

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　　5月13日，世界光刻机巨头——ASML将在今年年底开始供应透射率超过90％的用于极紫外线（EUV）系统的防护膜。ASML韩国市场经理MyoungKuy Lee表示，这些防护膜通过了400瓦功率容量耐久性。

　　据报道，该膜由ASML与Teradyne联合研发，三井化学代工。三星和台积电此前曾表示，只有当防护膜透光率超90%，他们才会考虑使用该膜。尽管存在由于透光率不理想而存在粉尘沉降的风险，这些公司还是使用了无薄膜的EUV系统。

　　ASML于2016年开发了第一款基于多晶硅的EUV防护膜。当时的透射率仅78％，2018年透射率提升至超80%，2020年透射率超85%。2019年6月3日，ASML与三井化学签订EUV Pellicle（光罩防尘薄膜）技术转让协议，此次的技转并非是100%转让，而是按序转让出开发数年的EUV Pellicle技术，并在三井化学量产后开始收取专利费。

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