5月26日，三井化学发布公告，宣布已开始商业化生产EUV防护膜，公司已获得荷兰光刻机厂ASML的EUV薄膜业务许可协议，将在全球率先进行EUV薄膜商业化生产，地点位于新设立的岩国大竹工厂。

三井化学将通过EUV防护膜等与ICT领域相关产品，积极响应客户对技术创新的要求，例如为半导体的进一步小型化做贡献。未来，三井化学将与ASML合作，配合EUV曝光机的演进，改进和创新EUV薄膜技术。

据了解，ASML曾表示将在今年年底开始供应该防护膜。ASML韩国市场经理 MyoungKuy Lee表示，该防护膜透射率超过90％，同时通过了400瓦功率容量耐久性。该防护膜由ASML与Teradyne 联合研发，三井化学代工生产。

2019年6月3日，ASML与三井化学签订EUV Pellicle（光罩防尘薄膜）技术转让协议，此次的技转并非是100%转让，而是按序转让出开发数年的EUV Pellicle技术，并在三井化学量产后开始收取专利费。 

据悉，EUV防护膜主要用于安装在EUV光路和晶圆制造空间之间，用于防尘，一个单位的成本约为 26,000 美元。