6月11日南大光电在投资者互动平台宣布，公司ArF光刻胶产品拿下首个订单。据笔者了解，此次南大光电自主研发的ArF光刻胶主要用于90nm-14nm的工艺节点。

虽然拿下的销售额并不多，但也能够从一定程度上证明国产光刻胶企业的的崛起。值得注意的是，南大光电的光刻胶项目，目前已经完成了25吨产线建设，具备一定量产条件。

提及芯片制造时，或许不少人会率先想到光刻机。确实，光刻机在芯片制造过程中发挥了至关重要的作用。但实际上，除了光刻机之外，还有不少核心材料也决定了芯片的诞生。

其中，光刻胶就是核心材料之一，其重要性甚至比肩光刻机。所以，光刻胶到底有多重要呢？它又凭什么能够比肩工业技术界的明珠——光刻机？

在芯片制造时，有近一半的时间在进行光刻过程，而这个过程需要光刻机与光刻胶的配合才能完成。如果没有光刻胶，即便拥有最先进的紫外光EUV光刻机，光刻精度依旧难以达标。

简单来说，光刻胶直接影响了集成电路的性能以及成品率。资料显示：2020年全球半导体市场规模为4260亿元，但光刻胶的规模仅为19亿元，仅占据整个半导体行业的0.4%。但就是这样一个不足1%的细小市场，中国却被日本严重垄断。在全球光刻胶市场中，日本占据高达72%的市场份额，中国的全球份额却不及13%。正是如此，中国光刻胶的进口，在很大程度上需要受制于日本。5月17日，外媒表示：日本光刻胶龙头信越化学限制向中国供货KrF光刻胶，这意味着我国的光刻胶也即将面临断供危机。

南大光电曾在5月底发出公告表明，自家公司旗下的ArF光刻胶产品再次通过了客户认证。而近日，南大光电6月11日官宣公司旗下的ArF光刻胶产品拿下首个订单，意味着中国在光刻胶行业取得了良性发展，有助于打破当下中国光刻胶被日本垄断的窘境。如今全球光刻胶市场中，日本一家独大，美国虽然不及日本但也可以自给自足，只有我国在不断追赶之中。不过，虽然中国的技术实力远不及日本，但是中国下游市场的产业链优势却逐渐凸显，这意味着中国企业存在极大弯道超车的可能性。日本对中国光刻胶的突然断供，也能够从一定程度上激励中国光刻胶企业不断实现技术突破，在全球光刻胶领域掌握一定的话语权。