在芯片制造领域，国内被海外垄断的不仅仅是光刻机、EDA软件等关键设备，还有光刻胶、光掩膜版等重要材料。

　　不过，随着国内攻关力度的加大，光刻胶的国产化率越来越高。更令人欣慰的是，在一众光刻胶行业龙头企业的努力下，国内已经可以在一定程度上实现高端光刻胶的国产替代。

　　日前，就有一家中国公司成功拿下海外7nm订单。

　　7月2日，南大光电在互动平台上回答网友提问时透露，该公司旗下的ArF光刻胶产品获得了来自国外客户的小批量订单。

　　笔者了解到，早在今年5月份，南大光电就曾表示，该公司研发的ArF光刻胶已经在55nm技术节点上获得了认证突破，并具备了金属布线层的工艺要求。

　　目前距离ArF光刻胶产品通过认证只有两个月的时间，南大光电就成功拿下了首批海外订单，其实力之强可见一斑。

　　需要注意的是，这批出口的ArF光刻胶可以被应用于90nm到7nm，甚至是7nm以下芯片制程。是市面上所有品类的光刻胶中，最高阶的产品。

　　在南大光电实现量产之前，日本的信越化学以及欧美的企业长期垄断着全球市场，国内自给率不足5%。

　　而如今南大光电获得海外订单，意味着中国已经成功击碎日美高端光刻胶的技术壁垒，国产光刻胶终于崛起。

　　不过，前方等待着南大光电的困难还有很多。虽然在核心技术上，南大光电打破了日美企业的垄断，掌握了一定的自主知识产权。

　　但笔者认为，在市场和客户壁垒面前，南大光电仍然需要努力。

　　这是因为，芯片制造的供应链中，上下游企业之间的关系非常密切且稳定，受认证周期长、有一定量产风险等因素影响，一般情况下下游企业不会随意更换上游设备或原材料供应商。

　　因此，信越化学、JSR等国际巨头发展多年来，早已构建起了牢固的客户壁垒。身为行业新秀的南大光电等国内企业，很难打入它们的供应链体系。

　　进不去供应链，市场规模就扩展不开，在竞争越来越激烈的大环境下，小企业的发展前景着实堪忧。

　　所以，在笔者看来，在努力攻克技术难题的同时，国内也应该推动光刻胶行业集中度的提升。加速扶持起一家规模庞大的领军企业，才能够与国际巨头相抗衡。

　　文/谛林 审核/子扬 校正/知秋