国内正在加速半导体产业的步伐,甚至在EUV光刻机领域也有布局。不过面向顶级的EUV极紫外光刻机技术,国外巨头却有不一样的表态。ASML称中国不太可能造出顶级光刻机,但也别那么绝对。
而日本光刻胶巨头JSR也表态了,表示中国难以掌握EUV技术。这些国外厂商的表态和实际情况有怎样的区别呢?若真如对方所说,又该如何破局呢?
中国半导体产业链已经迈入了新的阶段,正在积累更多的人才,产业链和生态系统等等一系列的环节储备。
而带来的进步和突破也是显著可见的,如上海微电子实现3D/2.5D封装光刻机的出货,国望光学加速曝光系统生产基地的建设等等,另外中科院也在招募与EUV研究有关的人才推进研究。
很多人都对EUV光刻机的生产制造难度,产业链条件等进行科普。
包括中国院士吴汉明也直言,单独让一个国家,地区独立造EUV光刻机是不现实的,因为会用上十万个零部件,超过5000家供应商。同时各国的技术占比多少,最后吴汉明院士总结EUV光刻机是全球化的结晶。
从产业链的角度来看,EUV光刻机的确离不开全球化的支持,若没有各国顶级技术的供应,ASML哪怕知道原理,明白各个生产制造流程,也未必能造出EUV光刻机。
就好比一位大厨,可以做出美味的菜肴,可是没有锅碗瓢盆,调味品等必要工具,也是束手无策。让这位大厨同时具备制造这些工具的方法,显然没那么容易。同样的道理,EUV光刻机集成全球顶级科技。
而现如今国产半导体产业链的布局越来越深入,甚至隐隐朝着EUV极紫外光技术靠拢,这也引起了国外巨头不一样的表态。
首先ASML首席执行官温彼得表示,中国不太可能造出顶尖光刻机。或许是对自己的话没有那么自信,温彼得还强调“但也别那么绝对,物理定律在中国同样有效。”
ASML作为全球唯一掌握EUV光刻机制造技术的厂商,说出这句话便迅速引起了业内的话题讨论。但是在ASML之后,日本光刻胶巨头JSR也表态了。
据JSR首席执行官埃里克约翰逊表示,虽然中国在推进芯片自给自足,但缺乏基础设施,难以掌握EUV光刻的复杂芯片制造技术。
在日本垄断全球光刻胶市场的队列当中,JSR是其中一员。该公司不仅掌握EUV光刻胶的技术实力,而且在ArF光刻胶市场份额中占据世界第一。
和ASML一样,SJR也做出了类似的表态。二者在各自的EUV光刻机,光刻胶领域内都有绝对的影响力。那么关于二者的表态,和实际情况有怎样的区别呢?或者说是否言之凿凿还是空中楼阁。
要想弄清楚这一点,就需要明白国产半导体产业具备怎样的产业链技术积累。
抛开主观因素,仅从现有的产业链发展情况来看,可以用“大而不强”来形容。
“大”是因为有丰富的产业链支持,不管是光刻胶还是光刻机,并且细分到光学系统、物镜系统、双工件台、控制系统这些光刻机四大件,都有相应的国产厂商参与布局。
背后有来自华卓精科、国望光学、上海微电子、科益虹源这些厂商入局,且都有一定的技术积累。
至于“不强”,大抵就是如国外厂商所说,基础设施,生态系统的整体发展节奏还有待持续提升。这里的生态系统,指的是提供高端芯片制造的必要材料,不仅仅是半导体设备这些基础设施,还有顶级的EUV光刻胶,电子特气以及工业软件等等。
观察国产光刻胶产业,国内较为瞩目的南大光电已经实现了ArF光刻胶的客户验证,还拿到了小批量订单,但是对应的制程工艺为55nm。
就这些情况而言,是否意味着ASML,JSR的表态和实际情况贴切呢?也许确有长远的发展进步空间,但对方忽略了一个重要因素,那就是基于对自主产业链发展的信念和坚定目标。
在过去几十年的历程中,有多少人同样是站在ASML,JSR目前的角度看问题,也觉得不可能。
可时间证明了一切,北斗卫星、盾构机、手撕钢哪一个不是历经艰难险阻并最终实现破冰的。不仅打破国外垄断,而且还面向全球市场占据极大影响力。
所以市场客观条件未必不会改变,至于该如何破局,可以遵守厚积薄发,稳扎稳打。用时间去积累更多的产业经验,技术和人才。也许一时半会ASML和SJR的表态与实际情况区别不大,可是别忘了事在人为,别轻易下结论。
EUV光刻机是全人类智慧的结晶,就连ASML也无法脱离全球化独自造出EUV光刻机。可是没有什么事情是绝对的,哪怕已经是板上钉钉的事情,在将来也会发生改变。到时候ASML,JSR可能就要收回如今说的话了。
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