涂胶显影设备能够完成光刻胶涂覆、显影检测等工艺流程，为半导体制造必备机器设备。

涂胶显影设备指在光刻工序中和光刻机配套使用的机器。涂胶显影设备具有烘烤、涂胶和显影等作用，能够直接影响光刻工序中曝光图案的形成，主要应用于芯片及功率器件制造。涂胶显影设备主要包括显影机、涂胶机、喷胶机等。

涂胶机和显影机为涂胶显影设备细分产品，作用于光刻工序的输入和输出环节。光刻为半导体制造工艺重要步骤，耗时占半导体制造过程的40．0％。光刻工序主要包括清洗、涂底、烘烤、曝光、显影、刻蚀、检测等，需利用涂胶显影设备在光刻胶层上刻画出几何图形结构，再通过刻蚀工艺将图形转移到衬底上。涂胶显影设备能够完成光刻胶涂覆、显影检测等工艺流程，为半导体制造必备机器设备。

根据新思界产业研究中心发布的《2023－2028年涂胶显影设备行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，涂胶显影设备在全球市场需求旺盛，2021年全球涂胶显影设备市场规模达24．6亿元，同比增长23．6％。在本土市场中，受国家政策支持，我国半导体行业景气度不断提升，带动涂胶显影设备市场规模不断扩大。2021年我国涂胶显影设备市场规模达9．4亿元，同比增长21．7％。我国为全球最大涂胶显影设备消费市场，随着下游行业快速发展，我国涂胶显影设备将获得广阔市场空间。

芯片为涂胶显影设备终端市场。近年来，在国际形势影响下，我国芯片制造企业自主研发能力不断提升，带动芯片产量持续增长。据国家统计局数据显示，2021年我国芯片产量达3594．3亿颗，同比增长33．3％。但目前，我国芯片行业仍处于产能供应不足局面。随着芯片制造技术发展成熟，预计未来一段时间，我国胶显影设备应用需求将不断增长。

我国涂胶显影设备行业集中度较高，海外品牌占据市场垄断地位，日本东电电子公司TEL占据我国涂胶显影设备市场近90．0％的份额。我国涂胶显影设备企业数量较少，主要生产企业为沈阳芯源微电子设备股份有限公司，占据市场不到4．0％的份额。

新思界行业分析人士表示，涂胶显影设备功能丰富，在光刻工序中应用广泛，随着我国半导体产业快速发展，涂胶显影设备市场需求将不断增长。我国涂胶显影设备行业起步较晚，但已成为全球最大消费市场。随着本土企业自主研发能力不断提升，我国涂胶显影设备国产化进程将进一步加快。