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含有机硅/改性氮化硼粉体低粘度光固化型超支化涂料、其制备方法及应用

来源：互联网2021年08月05日

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　　公开(公告)号：CN113185911A

　　公开(公告)日：2021.07.30

　　申请(专利权)人：　

　　武汉理工大学

　　摘要

　　本发明属于涂料领域，具体涉及一种含有机硅/改性氮化硼粉体低粘度光固化型超支化涂料、其制备方法及应用，包括组分A和组分B，其中，组分A按照重量份数计包括：50‑100份光固化型超支化涂料，0‑50份有机硅改性光固化型超支化涂料，1‑5份改性氮化硼粉体，5‑15份稀释剂；组分B为光引发剂；所述改性氮化硼粉体为将氮化硼进行初步羟基化后，再经原位聚合将多异氰酸酯和含羟基丙烯酸酯单体封端制备而成。本发明的含有机硅/改性氮化硼粉体低粘度光固化型超支化涂料，涂层致密性良好，防腐性能优异，涂膜实干速度仅需3～5s，硬度、柔韧性、耐冲击高，是一款性能优异的光固化型超支化涂料。

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