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期刊专利论文

胶粘剂组合物及其制备方法、光学胶膜及其应用

来源:国家知识产权局2025年10月20日

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申请公布号:CN120795815A

申请人:华为技术有限公司

摘要:本申请提供一种胶粘剂组合物,该胶粘剂组合物包括胶粘剂基体以及改性聚合物,其中,所述改性聚合物的主链中包含硼‑氧配位和/或连硼‑氧配位键,所述改性聚合物的端基和/或侧链包含羟基、丙烯酸酯基、乙烯基中的至少一种。本申请还提供了一种该胶粘剂组合物的制备方法、光学胶膜、应用该光学胶膜的折叠屏、及应用该光学胶膜或折叠屏的电子设备。本申请在改性聚合物的分子主链中引入硼‑氧配位键和/或连硼‑氧配位键,使胶粘剂组合物在保证粘接强度的前提下具有优异的吸能抗冲击性能,进而提高折叠屏的抗冲击性能,降低外力冲击使面板出现黑斑或者碎亮点等失效现象。

发明内容(节选):本申请改性聚合物的分子主链中引入了硼-氧配位键和连硼-氧配位键中的至少一种。由于硼-氧配位键或连硼-氧配位键在低应变速率作用下,,有足够的时间发生断裂行为,从而保证分子链在低模量下具有柔性和可弯折性;在高应变速率作用下,分子链运动的时间尺度远小于硼-氧配位键或连硼-氧配位键断裂的时间,未断裂的硼-氧配位键或连硼-氧配位键阻碍了分子链的运动,使分子链很难充分运动以发生解缠,宏观上表现出刚性与弹性的特点。硼-氧配位键或连硼-氧配位键以上独特的断裂与键合行为,使胶粘剂组合物在保证粘接强度的前提下具有优异的吸能抗冲击性能,能够吸收外力冲击产生的能力以抵抗冲击作用对面板的影响。另外,通过在改性聚合物的端基引入端羟基、端丙烯酸酯基、端乙烯基等活性基团,有利于与胶粘剂基体或丙烯酸酯单体发生交联反应。

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